電化學(xué)顯微鏡是顯微鏡的一種，基于電化學(xué)原理工作，可測量微區內物質(zhì)氧化或還原所給出的電化學(xué)電流。利用驅動(dòng)非常小的電極（探針）在靠近樣品處進(jìn)行掃描，樣品可以是導體、絕緣體或半導體，從而獲得對應的微區電化學(xué)和相關(guān)信息，目前可達到的zui高分辨率約為幾十納米?？捎糜谘芯繉w和絕緣體基底表面的幾何形貌；固/液、液/液界面的氧化還原活性；分辨不均勻電極表面的電化學(xué)活性；研究微區電化學(xué)動(dòng)力學(xué)、研究生物過(guò)程及對材料進(jìn)行微加工。
掃描電化學(xué)工作站（電化學(xué)顯微鏡）是市場(chǎng)上競爭性的單通道電化學(xué)工作站。掃描電化學(xué)工作站可通過(guò)計算機的USB接口或以太網(wǎng)來(lái)連接控制?？山尤刖钟蚓W(wǎng)內，經(jīng)授權的計算機可以進(jìn)行遠程訪(fǎng)問(wèn)。同時(shí)，它具有兩個(gè)模擬輸入和一個(gè)模擬輸出，用來(lái)控制外部?jì)x器，如旋轉圓盤(pán)電極或石英晶體微天平以及記錄所生成的數據。
電化學(xué)顯微鏡保護的條件：
1.所用材料和介質(zhì)的多樣性，須根據每一保護系統的具體條件以及每一操作階段的特定狀況確定自然腐蝕電位與保護范圍。
2.質(zhì)與要保護的構筑物的表面積之比明顯低于外部微區掃描電化學(xué)保護。因此，電流分布特別是在無(wú)防腐層表面上的電流分布受到了限制。帶有插入構件結構復雜的設備的內部電化學(xué)保護尤其困難，只能靠增加電極數量以及恰當安排多支保護電極才可能達到均勻的電流分布。
3.部電化學(xué)保護中必須考慮到要保護的構筑物上與輔助電極上的電化學(xué)反應與相應的一連串的反應，必須根據電解質(zhì)和其純度純度要求選擇微區掃描電化學(xué)保護的類(lèi)型和輔助陽(yáng)極的材料；必須查明正在發(fā)生什么電解質(zhì)反應以及這些反應發(fā)展到什么程度就會(huì )造成有害影響。
4.防腐層時(shí)，無(wú)論是已經(jīng)涂敷的還是計劃采用的，必須確定它們是否具有必要的穩定性以承受保護電流的電化學(xué)作用。
5.保護電流的作用或者由于犧牲陽(yáng)極的自腐蝕，能夠析出氫氣，其可能形成可以爆炸的氣體混合物。假如陽(yáng)極需要插進(jìn)氣相空間，此時(shí)不得使用具有催化活性的貴金屬陽(yáng)極或者有貴金屬鍍層的陽(yáng)極。從安全考慮，應當避免使用具有催化活性的貴金屬陽(yáng)極。
6.入構件與要保護的構筑物實(shí)現電絕緣并且不包括在微區掃描電化學(xué)保護的范圍內時(shí)，應當確定此保護電流是否會(huì )導致破壞性干擾和采取什么保護措施。
7.確定當操作不穩定時(shí)，以及當溫度與電解質(zhì)濃度發(fā)生變化時(shí)是否需要采取特別措施。
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