橢圓偏振光譜是一種表面敏感、非破壞性、非侵入性的光學(xué)技術(shù)，廣泛應用于薄層和表面特征。根據薄膜樣品反射的線(xiàn)偏振光偏振態(tài)的變化，通過(guò)模型擬合得到厚度和光學(xué)常數。根據薄膜材料的不同，可測量的厚度從幾微米到幾十微米不等。橢圓偏振光譜是一種很好的多層薄膜測量技術(shù)。
橢圓偏振儀可以表征薄膜的一系列特性，如薄膜厚度、光學(xué)性質(zhì)（n，K）、光學(xué)帶隙、界面和粗糙度厚度、薄膜成分、薄膜均勻性等。采用新型高頻偏振調制技術(shù)，測試過(guò)程無(wú)機械轉動(dòng)。與傳統的橢偏儀相比，它具有更快的測試速度、更寬的測量范圍和更高的表征精度。
橢圓偏振儀是一種用于檢測薄膜的厚度、光學(xué)常數和材料微觀(guān)結構的光學(xué)測量設備。由于不與樣品接觸，因此不會(huì )損壞樣品，也不需要抽真空，可測量的材料包括半導體、電介質(zhì)、聚合物、有機物、金屬和多層材料。也可應用于半導體、通訊、數據存儲、光學(xué)鍍膜、平板顯示、科研、生物、醫藥等領(lǐng)域。
橢圓偏振儀主體采用高強度鋼鋁結構，底座采用三維圓盤(pán)設計，并采用高精度蝸桿軸承系統，增強入射角控制精度，提高機械強度和穩定性?xún)x器，并通過(guò)計算機控制自動(dòng)改變M入射角，同時(shí)結合光譜測量。儀器的狀態(tài)調整、參數設置、數據采集和數據處理均由計算機自動(dòng)完成，方便用戶(hù)使用。廣泛應用于大學(xué)教學(xué)和工業(yè)生產(chǎn)，可用于研究金屬、非晶、太陽(yáng)能材料、非線(xiàn)性材料等，是一款高性?xún)r(jià)比、高集成度、高穩定性的通用型納米薄膜厚度測量分析儀器并且操作簡(jiǎn)單。它的主要功能如下：
1、各種功能材料的光學(xué)常數測量和光譜特性分析；
2、測量薄膜材料的折射率和厚度；測量對象包括：金屬、半導體、超導體、絕緣體、非晶、超晶格、磁性材料、光電材料、非線(xiàn)性材料；測量光學(xué)常數：復折射率實(shí)部虛部、復介電常數實(shí)部虛部、吸收系數a、反射率R。
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