電化學(xué)顯微鏡是一種掃描探針技術(shù),可測量溶液中樣品的局部電化學(xué)活性。反饋模式是SECM常見(jiàn)的形式,它測量氧化還原介質(zhì)與樣品相互作用的法拉第電流,從而產(chǎn)生固有的化學(xué)選擇性。研究表明,當探針靠近樣品時(shí),即使樣品沒(méi)有偏壓,偏壓探針測得的與溶液中氧化還原介質(zhì)相互作用的信號也會(huì )受到影響,靠近也會(huì )受到影響絕緣樣品。此外,SECM測量的信號取決于探針和樣品之間的距離。掃描電化學(xué)顯微鏡利用這種現象來(lái)描述樣品的電化學(xué)活性和形態(tài)。自引入和商業(yè)化以來(lái),SECM已成為受歡迎的掃描探針電化學(xué)技術(shù)。引入的直流(dc)SECM格式提供的靈活性在SECM和一些恒定距離SECM模式而得到擴展。
在電化學(xué)顯微鏡SECM中,由于電化學(xué)活性物質(zhì)(氧化還原介質(zhì))在間隙中擴散并在氧化產(chǎn)生的UME法拉第電流下減少,因此超微電極(UME)探針以已知電位偏置并保持在樣品附近進(jìn)行測量。測得的法拉第電流反映了樣品的電化學(xué)活性。在簡(jiǎn)單的SECM反饋模式下,樣品在開(kāi)路電位(OCP)下保持無(wú)偏。
電化學(xué)顯微鏡有很多優(yōu)點(diǎn)。使用SECM可以局部檢測樣品的電化學(xué)活性。在宏觀(guān)電化學(xué)中,測量的是整個(gè)樣品的平均值,這意味著(zhù)可能對測量有很大影響的局部特征和過(guò)程無(wú)法與其他特征區分開(kāi)來(lái)。這些效果可以通過(guò)使用SECM來(lái)可視化。例如,用SECM來(lái)測量新材料晶粒和晶界的電化學(xué)特性,這些特性通常對系統整體電化學(xué)特性有不同的影響,否則很難區分。此外,SECM是一種非接觸式技術(shù),與原子力顯微鏡(AFM)等其他局部測量技術(shù)相比,它可以在更大的探針到樣品距離下進(jìn)行。這在測量容易因接觸而損壞的易碎樣品時(shí)尤其有利。