全息數字顯微鏡

數字全息顯微鏡DHM® 的縱向精度是由激光的本征波長(cháng)來(lái)校準的，因此提供了激光干涉級別的高精度和高可重復性的量測數據?？v向分辨率達到了亞納米，橫向分辨率則由所選物鏡決定。
另外得益于對所記錄全息圖的先進(jìn)數字重建運算，DHM® 可數值選取所需聚焦的像面(數字自動(dòng)聚焦)。這一功能也允許用戶(hù)在數據記錄后重新尋找聚焦像面，而無(wú)需再調整樣品實(shí)際高度。

全息數字顯微鏡

反射式數字全息顯微鏡(DHM® -R)，非掃描非接觸無(wú)損測量，顯示靜態(tài)和動(dòng)態(tài)三維形貌，表征周期振動(dòng)。

全息數字顯微鏡

超高速記錄動(dòng)態(tài)三維形貌：
DHM® 采用非掃描機制，采集單幀圖像既能記錄樣品表面三維形貌，因此擁有其他技術(shù)無(wú)法匹敵的圖像采集速度。使用標準相機采集速度為視頻速率30幀/秒，而高速相機可以達到1000幀/秒，使得以下應用變?yōu)榭赡埽?br/>研究可形變樣品三維動(dòng)態(tài)響應
表面大區域掃描分析
高產(chǎn)量常規檢測
生產(chǎn)線(xiàn)在線(xiàn)三維形貌捕捉

MEMS測振分析，高可達25MHz
頻閃模塊(可選配件)可同步DHM® 測量時(shí)激光脈沖與 MEMS器件的激勵信號，獲取振動(dòng)周期內的全視場(chǎng)振動(dòng)模態(tài)。 這些*的分析數據可提供以下信息：
三維形貌時(shí)序圖
頻率共振分析和響應分析
面內面外振幅分析(面內振幅測量精度1nm，面外振幅測量精度5pm)
復雜運動(dòng)表征，振動(dòng)模態(tài)表征，樣品動(dòng)態(tài)三維形貌

多種可控環(huán)境下測量
*的光學(xué)原理和光路設計使得DHM® 能夠滿(mǎn)足使用者在各種環(huán)境下的測量需求，提供靈活和便利的測量體驗：
透過(guò)玻璃(蓋玻片、載玻片、玻璃窗口)或者浸潤液
觀(guān)測環(huán)境控制箱或真空腔內部樣品，可改變環(huán)境參數，比如溫度、濕度、氣壓、氣體成分等

測量透明樣品三維形貌
得益于DHM® 多激光源配置，通過(guò)反射分析軟件(可選配件)可以表征透明薄膜樣品，包括：
透明結構表面形貌
多層透明薄膜組成結構的厚度、折射率，測量范圍可從10納米至幾十微米
柔性材料或是液體的形貌

三維形貌時(shí)序圖: 水滴蒸發(fā)的全過(guò)程

反射式數字全息顯微鏡DHM® -R擁有三種型號，主要區別在于不同的激光源數量：
> R1000型配備單激光源，是測量平滑表面和振動(dòng)的理想工具。
> R2100型配備可以同時(shí)使用的雙激光源，在測量復雜表面和非連續結構時(shí)更有優(yōu)勢。
> R2200型是在R2100型基礎上擴展了第三個(gè)激光源，增加測量范圍的同時(shí)，也增添了針對半透明薄膜 結構的測量能力。

反射式數字全息顯微鏡DHM® R2100

R1000 系列

DHM®-R1000系列配置單波長(cháng)激光源，可以為您的樣品提供實(shí)時(shí)三維檢測，擁有亞納米級分辨率，動(dòng)態(tài)可測垂直臺階高度為333nm，而對于連續表面動(dòng)態(tài)可測高度則達到了200μm。R1000系列是反射式DHM®的zui基本配置，性?xún)r(jià)比優(yōu)勢突出，使用極其便利。

適用范圍包括平滑表面、樣品形貌、以及不超過(guò)333nm陡直臺階等。

DHM R1000系列光路示意圖

R2100 系列

DHM®-R2100是按照能夠同時(shí)使用雙波長(cháng)激光源測試的規格設計的，擁有亞納米級分辨率，動(dòng)態(tài)可測垂直臺階高度達到了2.1 μm，對于連續表面動(dòng)態(tài)可測高度同樣為200 μm。

兩個(gè)激光源擁有各自不同的參考光光路，但共用物光光路，主要優(yōu)勢在于：

可測垂直臺階高度增加到了2.1 μm

可以自由切換使用單、雙激光源進(jìn)行實(shí)時(shí)測試

Mapping算法保證在可測垂直臺階高度范圍內的亞納米測量精度

DHM®-R2100家族系列能夠使用相機同時(shí)記錄兩束光分別產(chǎn)生的干涉條紋并投射到同一幅全息圖上，之后還能對兩束光分別進(jìn)行數字重建。 兩束光源產(chǎn)生的合成波長(cháng)使得動(dòng)態(tài)可測垂直臺階擴展到了2.1 μm，這些過(guò)程均在視頻速率下完成。

DHM R1000系列光路示意圖

使用雙光源系統與使用單光源系統相比一樣便利。視不同被測樣品情況，使用者可以自由切換使用單/雙光源模式以獲取不同可測臺階范圍。

另外，通過(guò)結合單光源與合成光源的測量數據，在單光源模式下的亞納米垂直測量精度能夠利用功能強大的Mapping算法適用到雙光源模式。

DHM® 雙光源的原理

R2100 系列提供雙光源測試模式，光源 λ_1 和光源λ_2將產(chǎn)生一個(gè)波長(cháng)為Λ的合成光源。同時(shí)合成光源測試，在保持亞納米級精度的同時(shí)，將動(dòng)態(tài)可測垂直臺階高度增加到了2.1 μm，而對于連續表面動(dòng)態(tài)可測高度同樣為200 μm。

當然，雙光源系統的兩個(gè)光源也可以各自獨立單獨使用。

R2200 系列

DHM®-R2200 是按照三波長(cháng)激光源的規格設計的，擁有亞納米級分辨率，動(dòng)態(tài)可測垂直臺階高度達到了12 μm，對于連續表面動(dòng)態(tài)可測高度同樣為200 μm。

DHM®-R2200 系列全息顯微鏡在實(shí)時(shí)測量方面達到了一個(gè)全新的高度。創(chuàng )新的光路設置包括了共用的物光光路以滿(mǎn)足三光源配置。三個(gè)光源允許使用兩組不同的雙光源組合，也就是說(shuō)有兩個(gè)不同波長(cháng)的合成光源供選擇：

• 動(dòng)態(tài)可測垂直臺階高度范圍增加到了12 μm

• 可以自由切換使用單、雙激光源進(jìn)行實(shí)時(shí)測試

• Mapping算法保證在可測垂直臺階高度范圍內的亞納米測量精度

• 使用雙光源測量與單光源同樣的便利性

  DHM®-R2200 系列除了擁有三光源，在其他方面與DHM®-R2100系列有著(zhù)同樣的特點(diǎn)和功能。 DHM®-R2200 系列能夠使用相機同時(shí)記錄兩束光分別產(chǎn)生的干涉條紋并投射到同一幅全息圖上，之后還能對兩束光分別進(jìn)行數字重建。 兩束光源產(chǎn)生的合成波長(cháng)使得動(dòng)態(tài)可測垂直臺階擴展到了12 μm，這些過(guò)程均在視頻速率下完成。

DHM R2200系列光路示意圖

使用三光源系統與使用單光源系統相比一樣便利。視不同被測樣品情況，使用者可以自由切換使用單/雙光源模式以獲取不同可測臺階范圍。

DHM®-R2200系列配置的第三光源用來(lái)與另外兩個(gè)光源結合使用。 因此在雙光源使用模式下?lián)碛幸粋€(gè)短合成光波長(cháng)和長(cháng)合成光波長(cháng)，進(jìn)一步拓寬了動(dòng)態(tài)測試范圍。DHM®-R2200系列的兩種合成波長(cháng)分別為6 μm 和30 μm，對于動(dòng)態(tài)可測垂直臺階高度分別為2.1 μm和12 μm。

另外，通過(guò)結合單光源與合成光源的測量數據，在單光源模式下的亞納米垂直測量精度能夠利用功能強大的Mapping算法適用到雙光源模式。

由于測量和圖像抓取速率快，DHM® 可以有效避免環(huán)境振動(dòng)對測量帶來(lái)的影響，防止出現圖像模糊的情況。實(shí)時(shí)顯示的三維動(dòng)態(tài)形貌保證了DHM® 使用的便利高效，而測量可以通過(guò)垂直相干掃描模式增加到厘米量級。

DHM® 雙光源的原理

R2200 系列提供兩組雙光源測試模式，光源 λ_1 和光源λ_2將產(chǎn)生一個(gè)長(cháng)合成波長(cháng)Λ光源，在保持亞納米級精度的同時(shí)，將動(dòng)態(tài)可測垂直臺階高度增加到了12 μm，而對于連續表面動(dòng)態(tài)可測高度同樣為200 μm。

另外，光源 λ_1 和光源λ_3也可以合成一個(gè)短合成波長(cháng)Λ光源，在保持亞納米級精度的同時(shí)，將動(dòng)態(tài)可測垂直臺階高度增加到了2.1 μm。

Mapping算法保證在可測垂直臺階高度范圍內的亞納米測量精度，每個(gè)光源也可以各自單獨使用。

參數指標

性能