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基于285nm二氧化硅基底的單層氮化硼薄膜

簡(jiǎn)要描述：Single Layer CVD hexagonal Boron Nitride Film on 285 nm SiO2/Si substrates （p-doped）, 1cmx1cm: 4 pack
Properties of BN film
97% coverage with minor holes and organic residues
High Crystalline Quality

  • 產(chǎn)品型號：
  • 廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間：2024-06-03
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量：999

詳細介紹

Single Layer CVD hexagonal Boron Nitride Film on 285 nm SiO2/Si substrates (p-doped), 1cmx1cm: 4 pack

Properties of BN film

97% coverage with minor holes and organic residues

High Crystalline Quality

The Raman spectrum should peak at ~1369cm-1

Single Layer CVD hexagonal Boron Nitride Film on 285 nm SiO2/Si substrates (p-doped), 1cmx1cm: 4 pack

Properties of BN film

97% coverage with minor holes and organic residues

High Crystalline Quality

The Raman spectrum should peak at ~1369cm-1

Single Layer CVD hexagonal Boron Nitride Film on 285 nm SiO2/Si substrates (p-doped), 1cmx1cm: 4 pack

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