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  • n-type WS2 crystals N型二硫化鎢晶體

    14 years of growth optimization in chemical vapor transport (CVT) as well as flux growth lead to our flawless WS2 crystals

    訪(fǎng)問(wèn)次數:849
    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    更新日期:2024-06-03
  • 小尺寸二硫化鉬晶體 10x10mm

    Natural MoS2 is an indirect gap semiconductor (1.2 eV) but becomes highly luminescent in the monolayer from at 1.9 eV (quasi-particle / optical band gap).

    訪(fǎng)問(wèn)次數:638
    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    更新日期:2024-06-03
  • TiS2 二硫化鈦晶體 (Titanium Disulfide)

    Our TiS2 crystals are stabilized in 1T ohase (semimetallic phase).

    訪(fǎng)問(wèn)次數:877
    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    更新日期:2024-06-03
  • WS2 二硫化鎢晶體 (Tungsten Disulfide)

    14 years of growth optimization in chemical vapor transport (CVT) as well as flux growth lead to our flawless WS2 crystals: Our large size (~1cm in size) vdW WS2 crystals are treated as gold standards

    訪(fǎng)問(wèn)次數:776
    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    更新日期:2024-06-03
  • HfS2 二硫化鉿晶體 (Hafnium Disulfide)

    Hafnium disulfide (HfS?) is an indirect gap layered semiconductor in the bulk and becomes direct gap semiconductor in monolayer form.

    訪(fǎng)問(wèn)次數:757
    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    更新日期:2024-06-03
  • GaS 硫化鎵晶體 (Gallium Sulfide)

    Large size hexagonal phase GaTe (Gallium telluride) crystals have been developed at our facilities using three different growth techniques, namely Bridgman growth, chemical vapor transport (CVT)

    訪(fǎng)問(wèn)次數:741
    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    更新日期:2024-06-03
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