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NS3500 Solar 半導體晶圓質(zhì)量檢測系統

簡(jiǎn)要描述:NS-3500 Solar 是一種可靠的半導體晶圓檢測系統。通過(guò)快速光學(xué)掃描模塊和信號處理算法實(shí)現實(shí)時(shí)共焦顯微圖像。在測量和檢測微觀(guān)三維結構,如半導體晶片,FPD產(chǎn)品,MEMS設備,玻璃基板,材料表面等方面擁有各種解決方案。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2024-06-04
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:1836

詳細介紹

NS3500 Solar 半導體晶圓質(zhì)量檢測系統

NS-3500 Solar 是一種可靠的半導體晶圓檢測系統。通過(guò)快速光學(xué)掃描模塊和信號處理算法實(shí)現實(shí)時(shí)共焦顯微圖像。在測量和檢測微觀(guān)三維結構,可以為半導體晶片,FPD產(chǎn)品,MEMS設備,玻璃基板,材料表面等提供各種解決方案。

Features & Benefits(性能及優(yōu)勢):

  • 高分辨無(wú)損傷光學(xué)3D測量                               自動(dòng)傾斜補償

  • 實(shí)時(shí)共焦成像                                                 簡(jiǎn)單的數據分析模式

  • 多種光學(xué)變焦                                                 雙Z掃描

    大范圍拼接                                                    半透明基材的特征檢測

  • 實(shí)時(shí)CCD明場(chǎng)和共聚焦成像                            無(wú)樣品準備

  • 自動(dòng)聚焦

Application field(應用領(lǐng)域):

NS-3500是測量低維材料的有前途的解決方案。

可測量微米和亞微米結構的高度,寬度,角度,面積和體積,例如

-半導體:IC圖形,凹凸高度,線(xiàn)圈高度,缺陷檢測,CMP工藝

- FPD產(chǎn)品:觸摸屏屏幕檢測,ITO圖案,LCD柱間距高度

- MEMS器件:結構三維輪廓,表面粗糙度,MEMS圖形

-玻璃表面:薄膜太陽(yáng)能電池,太陽(yáng)能電池紋理,激光圖案

-材料研究:模具表面檢測,粗糙度,裂紋分析




Specifications(規格):

Model

Microscope  NS-3500 Solar

備注

物鏡倍率

10x

20x

50x

100x


觀(guān)察/  測量范圍  

水平 (H): μm

1400

700

280

140


垂直 (V): μm

1050

525

210

105


工作范圍: mm

16.5

3.1

0.54

0.3


數值孔徑(N.A.)

0.30

0.46

0.80

0.95


光學(xué)變焦

x1 to x6


總放大倍率

178x to 26700x


觀(guān)察/測量光學(xué)系統  

Pinhole共聚焦光學(xué)系統


高度測量

測量掃描范圍

400 um

注 1

顯示分辨率

0.001 μm


重復率 σ

0.010 μm

注 2

幀記憶

像素

1024x1024, 1024x768, 1024x384,   1024x192, 1024x96


單色圖像

12 bit


彩色圖像

8-bit for RGB each


高度測量

16 bit


幀速率

表面掃描

20 Hz to 160 Hz


線(xiàn)掃描

~8 kHz


激光共焦測量光源

波長(cháng)

405nm


輸出

~2mW


激光等級

Class 3b


激光接收元件

PMT (光電倍增管)


光學(xué)觀(guān)察光源

10W LED


光學(xué)觀(guān)察照相機

成像元件

1/2" 彩色圖像 CCD 傳感器


記錄分辨率

640x480


自動(dòng)調整

增益, 快門(mén)速度, White balance


數據處理單元

PC


電源

電源電壓

100 to 240 VAC, 50/60 Hz


電流消耗

500 VA max.


重量

顯微鏡

Approx. ~50 kg

(Measuring head unit : ~12 kg)


控制器

~8 kg


隔振系統

氣浮光學(xué)平臺隔振系統

Option

           

注1:精細掃描由壓電執行器(PZT)執行。

注2 :以100×/ 0.95物鏡對標準樣品(步長(cháng)1μm)進(jìn)行100次測量。        



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